XMCMP3
(14nm制程节点图形缺陷检查装备)
将UV光学照射元件与多个高速成像传感器相结合,提供了一系列能够
在图案产品晶圆上在线检测关键缺陷的光学模式。P3的高采样率、高
产量和高灵敏度,使其在关键的前段(FEOL)和后段(BEOL)工艺层上更
加高效地捕获并控制良率缺陷。